隨著鍍膜技術(shù)的快速增長(zhǎng),各種類(lèi)型的真空鍍膜機(jī)也開(kāi)始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性,恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響。
對(duì)此,真空鍍膜機(jī)廠(chǎng)家指出,它的運(yùn)作原理其實(shí)很簡(jiǎn)單。就是通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車(chē)燈鍍膜機(jī)廠(chǎng)家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。
真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了,壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會(huì)造成真空度不夠,但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源,不過(guò)有真空計(jì)的存在,要控制好還是不成問(wèn)題的。