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真空鍍膜設備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法

作者:  來源:  更新時間:2019-1-2 8:43:19  點擊次數(shù):
真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點,可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足,且各項技術(shù)指標都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝,在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應用。

催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比,在技術(shù)上有哪些創(chuàng)新?
1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一,真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一,不銹鋼的四分之一,可反復利用,大大降低了成本。
2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”,需要再加工時不經(jīng)任何處理。
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