真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支,在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。為了讓大家更詳細(xì)的了解真空鍍膜的應(yīng)用,今天小編詳細(xì)為大家介紹真空鍍膜應(yīng)用的主要幾種方法,希望對(duì)大家有用!真空鍍膜應(yīng)用,簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。
相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式,真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜,它的主要方法包括以下幾種:
1、真空蒸鍍
其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。
2、濺射鍍膜
濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
3、離子鍍膜
即干式螺桿真空泵廠家已經(jīng)介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的,因此兼有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化,并在離子轟擊下,將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。在膜的形成過程中,基片始終受到高能粒子的轟擊,十分清潔。
4、真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù),以實(shí)現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
真空鍍膜基礎(chǔ)知識(shí)
真空鍍膜機(jī)光學(xué)加工工藝發(fā)展情況
真空鍍膜機(jī)工藝一般都運(yùn)用到哪些領(lǐng)域?
如何減少真空鍍膜設(shè)備中的灰塵?
真空鍍膜方法
真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題
真空鍍膜機(jī)薄膜均勻性概念