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真空鍍膜機需要化學成分的均勻性

作者:馳誠機械  來源:溫州馳誠機械設(shè)備有限公司  更新時間:2017-12-10  點擊次數(shù):
真空鍍膜機在鍍膜的時候,需要鍍層表面的化學成分保持均勻性,這主要體現(xiàn)在以下三個方面:
1、厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看也就是1/10波長作為單位,約為100A,真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。
2、化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。
3、晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題。

真空鍍膜機

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