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真空鍍膜設備 離子鍍的類型及特點

作者:溫州馳誠真空機械有限公司  來源:http://xingxinbz.com  更新時間:2016-11-7 15:47:13  點擊次數(shù):
離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下,采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā),利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離,在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下,蒸發(fā)物質或其反應產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式,構成了不同類型的離子鍍,下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。
表 離子鍍的種類及其特點
種類 蒸發(fā)源 離化方法 工作環(huán)境 特點 用途
直流放電法  電阻  輝光放電dc:0.1kv~5kv  惰性氣體1pa,0.25ma/cm2  結構簡單,膜層結合力強,但鍍件溫升高,分散性差! 耐熱,潤滑等鍍件
弧光放電法  電子束、燈絲  弧光放電dc:100v 高真空1.33x10-4pa  離化率高,易制成反應膜,可在高真空下成膜,利于提高質量  切削工具、金屬裝飾等鍍件
空心陰極法  空心陰極  等離子體電子束dc:0v~200v 惰性氣體或反應氣體  離化率高,蒸發(fā)速度大,易獲得高純度膜層  裝飾、耐磨等鍍件
調頻激勵法  電阻、電子束  射頻電場13.56mhzdc:0.1kv~5kv 惰性氣體或反應氣體  離化率高,膜層結合力強,鍍件溫升低,但分散性差  光學、半導體等鍍件
電場蒸發(fā)法  電子束  二次電子dc:1kv~5kv 真空  不純氣體少,能形成較好的膜  電子元件
多陰極法    電阻、電子束 熱電子dc:0v~5kv 惰性氣體或反應氣體 低速電子離化效果好  裝飾、電子、精密機械等零件
聚焦離子束法 電阻 聚集離子束dc:0v~5kv 惰性氣體  因離子聚束,膜層結合力強  電子元件
活性反應法 電子束 二次電子dc:200v 反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等  金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層 電子、裝飾、耐磨等鍍件
真空鍍膜設備 離子鍍的類型及特點
關鍵詞:濺射鍍膜機 真空鍍膜機 離子鍍
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