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磁控濺射法定義是什么?

作者:溫州馳誠真空機(jī)械有限公司  來源:http://xingxinbz.com  更新時間:2016-10-15 14:17:20  點(diǎn)擊次數(shù):
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。 
磁控濺射法定義是什么?
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