CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備濺射鍍技術應用
蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機,主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。
由于鍍膜室為立式容器,所以它具有臥式鍍膜機的一切優(yōu)點, 又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡,更可方便地實現(xiàn)自動生產(chǎn)線,是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設備。
CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
腔體結構: 立式前開門,臥式前開門。
材質(zhì)用料:腔體材質(zhì)為SUS304不銹鋼或碳鋼
真空系統(tǒng): 擴散泵(可選分子泵)+羅茨泵+機械泵+維持泵(另有深冷泵系統(tǒng)可供選擇)
濺射靶材: 中心圓柱靶,平面靶,孿生靶等
磁控電源: 可配備直流或中頻磁控濺射電源
轉(zhuǎn)動系統(tǒng): 變頻調(diào)速,公自轉(zhuǎn)結合,可根據(jù)客戶產(chǎn)品和要求設計
膜層結構: 單層膜、多層膜
氣體控制: 氣體流量控制儀集成觸控操作控制
人機界面: PLC智能控制+全彩HMI觸摸屏
操作方式: 邏輯全自動方式、半自動方式、手動方式
智能控制: PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面,實現(xiàn)全自動控制
報警及保護:異常情況進行報警,并執(zhí)行相應保護措施。
其他技術參數(shù):
極限真空: 5.0×10-4Pa
抽氣速率: 5.0*10-2≤5min
水壓流速≥0.2Mpa 3m3/h;水溫≤25℃;氣壓:0.4-0.8Mpa;
備注:
一般規(guī)格:
Φ1000mm*H1200mm,Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm,
Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm
真空室尺寸或設備配置可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做
本機鍍部分產(chǎn)品可不做底油。本機主 要特點配用改進型高真空排氣系統(tǒng),抽速快、效率高、節(jié)電、降噪和延長泵使用壽命;實現(xiàn)蒸發(fā)、磁控濺射、自動控制,操作簡單,工作可靠;蒸發(fā)鍍應用新型電極 引入裝置,接觸電阻小且可靠;磁控濺射應用鍍膜材料廣泛,各種非導磁的金屬、合金均可作鍍料;結構緊湊、占地面積小;磁控、蒸發(fā)共用兩臺立式工件車,操作 方便、高效。
(或雙門蒸發(fā)、磁控兩用機) 公司業(yè)務范圍真空鍍膜成套設備與技術,真空工程用各種泵、閥、真空計、油、脂、密封件,真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。真空設備故障診斷與排除、老 產(chǎn)品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術研究,咨詢服務。
新技術、新設備、新工藝公司新開發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機,配用改進型高真空抽 氣系統(tǒng)及全自動控制系統(tǒng),抽速快、效率高、操作簡單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點;是鍍制金屬、合金及化合物膜的理 想設備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應用在光學、電子、通訊、航空等領域。
關鍵詞:真空鍍膜機 磁控濺射鍍膜設備
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