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多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備

作者:溫州馳誠真空機械有限公司  來源:http://xingxinbz.com  更新時間:2016-6-1 17:42:32  點擊次數(shù):

  多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質(zhì)增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘,可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產(chǎn)品、醫(yī)療器械、儀器儀表等領(lǐng)域。
  多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備在真空條件下采用物理氣相沉積技術(shù),在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術(shù)、柱形靶及磁控油射離子鍍技術(shù)有機結(jié)合在一起,可單獨使用或同時使用,制取含有連續(xù)過渡層的各種膜層。
  多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備制造簡單,使用方便,運行成本低無污染,經(jīng)濟效益高。其雙真空室可交替工作,能提高工效一倍,大大節(jié)省投資。該設(shè)備主要性能指標(biāo)如下:鍍膜室極限真空度1.3×10〈’-3〉Pa;抽真空時間(從大氣抽至6.67×10〈’-3〉Pa)≤20min;壓升率1Pa/h;工作周期1h;弧電流60 ̄90A;弧電壓18 ̄21V;磁控油射靶功率10 ̄36kW。該設(shè)備已在國內(nèi)外出售幾十臺套,取得了良好的社會經(jīng)濟效益。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備
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