真空鍍膜機(jī)廠(chǎng)家真空鍍膜設(shè)備鍍膜機(jī)的設(shè)計(jì)及改造
真空鍍膜機(jī)廠(chǎng)家真空鍍膜設(shè)備鍍膜室采用立式前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，內(nèi)腔尺寸：800 mm(直徑)×800 mm(長(zhǎng))，外壁通冷卻水。鍍膜機(jī)采用分子泵抽氣，減少了返油污染，結(jié)合力好，無(wú)斑點(diǎn);安裝了分別使用30 kW 中頻濺射電源和3 kW 多弧電源的非平衡磁控濺射圓柱對(duì)靶和多弧圓柱靶;工件夾具采用往復(fù)式鼠籠式工件籃，無(wú)需掛具，裝件量大，可鍍制六面體結(jié)構(gòu)的工件；偏壓電源使用10 kW直流脈沖電源，可通過(guò)調(diào)節(jié)功率和占空比改變鍍膜工藝，提高膜層的附著力;電控采用PLC+ 觸摸屏控制系統(tǒng)，整個(gè)系統(tǒng)具有泵閥互鎖、防爆、互保護(hù)功能可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)真空鍍膜。圖1是鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)原理示意圖。
真空鍍膜機(jī)廠(chǎng)家真空鍍膜設(shè)備鼠籠式往復(fù)擺線(xiàn)工件籃的結(jié)構(gòu)
真空鍍膜機(jī)廠(chǎng)家真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜在取代電鍍時(shí)面臨的最大挑戰(zhàn)是膜層制備的繞射性。由于真空鍍膜是在真空中完成薄膜的制備，膜層的沉積為平行于蒸發(fā)源，工件必須面對(duì)蒸發(fā)源，多采用掛件結(jié)構(gòu)，垂直面的沉積速率即使在繞射性較好的磁控濺射也僅為平行于蒸發(fā)源的平面沉積速率的五分之一。此，真空鍍膜多適用于平面較多的工件或圓形工件，不能用于結(jié)構(gòu)復(fù)雜的工件，這些都大大限制了真空鍍膜替代水電鍍的應(yīng)用，減慢了綠色環(huán)保的真空鍍膜應(yīng)用的步伐。對(duì)于緊固件這種六個(gè)面都需要鍍膜的工件，通常使用的真空鍍膜夾、卡、掛會(huì)使工件表面出現(xiàn)未鍍膜的盲點(diǎn)，形成酸堿和水汽及氧分子的侵蝕點(diǎn)，形成的侵蝕點(diǎn)會(huì)加劇緊固件的腐蝕，因此無(wú)法采用真空鍍膜常用的夾、卡、掛等方式固定工件。
為了解決這一難題，本項(xiàng)目研究設(shè)計(jì)了獨(dú)特的鼠籠式工件籃，把螺釘螺栓等緊固件裝在工件籃內(nèi)，籃內(nèi)布有翻轉(zhuǎn)擋板，當(dāng)鼠籠工件籃擺線(xiàn)往復(fù)運(yùn)動(dòng)時(shí)，緊固件翻轉(zhuǎn)，形成新的面對(duì)沉積源的面，多層不停的翻轉(zhuǎn)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)緊固件每個(gè)面均勻鍍膜。圖2 和圖3 分別是工件藍(lán)和工件藍(lán)擺線(xiàn)動(dòng)作示意圖。
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