真空鍍膜設(shè)備塑料真空鍍膜設(shè)備
塑料真空鍍膜設(shè)備的發(fā)展相當(dāng)快，隨著生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例，剛開發(fā)時可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達2253mm?；木硗驳淖畲缶韽绞?000mm，最大卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機鍍膜時間占整個周期的75%，輔助操作時間只占25%。效率更高的從大氣到大氣的卷繞式真空鍍膜機已于1977年出售。隨著計測技術(shù)、控制技術(shù)的進步和電子計算機的應(yīng)用，卷繞式真空鍍膜機正向著高度自動化和高度可靠性的方向發(fā)展。
卷繞式真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2μm，可以在這個范圍內(nèi)選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。
真空鍍膜設(shè)備塑料真空鍍膜設(shè)備該裝置的真空室(6)分為上室(7)，左下室(8)和右下室(9)。蒸鍍時，兩組蒸發(fā)源(19、23)蒸發(fā)的鍍膜材料(21、25)分別沉積在塑料薄膜(11)上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側(cè)，裝上輝光放電發(fā)生器(15、16)。發(fā)生器產(chǎn)生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。
真空鍍膜設(shè)備塑料真空鍍膜設(shè)備高速低溫濺射法發(fā)展很快，使高熔點金屬如鉻、鈦、鎢、鉬等的沉積成膜成為可能。鍍膜室直徑1400mm，高2200mm的大型鐘罩式濺射鍍膜機和長13mm，寬7.6mm的大型串列式濺射鍍膜機已投入使用。最近，日本專利提出一種卷繞式濺射鍍膜機，該機可鍍兩種不向的鍍膜材料，并在第一濺射區(qū)和第二濺射區(qū)之間裝溫度控制裝置(13)，加強對基材的冷卻，保證在鍍膜層較厚和沉積速度較快的情況下，基材不會發(fā)生卷縮和變形。該裝置示意圖見圖1。真空室(1)裝有濺射靶(4a,4b)和陽極(14a,14b)，兩個靶分別與直流電源(5a,5b)相接，對塑料薄膜(8)進行濺射。輥筒(11a,11b,11c))有各自的冷卻溫度。
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