真空鍍膜機的操作方法
真空鍍膜機主要是指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延。用戶對于真空鍍膜機的操作方法都了解嗎?下面小編就來具體介紹一下真空鍍膜機的操作方法，希望可以幫助到大家。
真空鍍膜機電控柜操作
1. 開水泵、氣源。
2. 開總電源。
3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關予抽，開前機和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。
DEF-6B操作
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。
關機順序
1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。
3. 到50以下時，再關維持泵。
真空鍍膜機檢漏操作
1、將氦質譜檢漏儀 HLT 560連接到泵組前的檢漏口上.
2、啟動檢漏儀, 檢漏儀開始抽取密閉腔體中的氣體,同時啟動鍍膜設備的泵組.
3、在鍍膜機內部的真空下降到一定程度的時候,如0.5 mbar以下的時候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標準保養(yǎng)時動到的部位.這時需要有人觀察檢漏儀的漏率指示值的變化.當漏率上升或漏率值變化劇烈的時候,及時指出漏點所在位置,并做記號.
4、所有可疑點都檢測完成后,關閉檢漏儀,停下鍍膜機的泵組并將鍍膜機打開,將檢測出的漏點進行處理(如更換密封圈,清潔等等).處理完成后,再按照前敘步驟檢查一遍,直到所有漏點都被清除,檢漏過程完成.