技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜機清洗設(shè)備，尤其涉及一種對真空鍍膜機清洗機部件中冷卻管路進(jìn)行清洗的設(shè)備。
背景技術(shù)：
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,簡稱PVD),是一種利用物理方式在基材上沉積薄膜的技術(shù)。物理氣相沉積設(shè)備的冷卻系統(tǒng)主要作用在于冷卻設(shè)備零部件，如真空泵組，油擴(kuò)散泵，反應(yīng)室腔壁，靶源等。為了實現(xiàn)對設(shè)備整體的冷卻效果，目前的PVD設(shè)備一般采用流道式冷卻，通常情況下，對需要冷卻的部件，出于部件需要有防腐蝕功能的考慮，此類部件通常采用不銹鋼或其它具有較強耐腐蝕功能的材料。冰水機將冷卻后的水泵入上述需要冷卻的零組件，冷卻后經(jīng)由相應(yīng)管道最終回流至冰水機中，實現(xiàn)一個冷卻水循環(huán)。但在實際生產(chǎn)過程中，由于所用冷卻水水質(zhì)等以及其它未可知的原因，在上述如反應(yīng)室外壁，擴(kuò)散泵外壁冷卻水管道，尤其嚴(yán)重的是靶源等部件中產(chǎn)生污垢沉淀現(xiàn)象，更為常見的情況是，腐蝕后產(chǎn)生的黃色懸浮物彌散于冷卻水中，并隨冷卻水進(jìn)入上述所有需要冷卻的部件并逐漸沉積于其中，導(dǎo)致有效冷卻水流量下降，影響冷卻效果。對沉積于擴(kuò)散泵外壁冷卻管道和反應(yīng)室儲液腔體之中的上述腐蝕物，通常采取的辦法是將靶源拆卸下來進(jìn)行大清洗和保養(yǎng)，這將耗費較多的人力成本，并容易造成停工損失。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供了一種結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的真空鍍膜機清洗設(shè)備。一種真空鍍膜機清洗設(shè)備，用于對真空鍍膜機部件中冷卻管路清洗，真空鍍膜機清洗設(shè)備包括儲液裝置，該儲液裝置包括儲液腔體、出液管和回液管，該出液管和回液管上分別設(shè)置若干出液支管，該回液管上設(shè)置有若干回液支管，該出液支管與真空鍍膜設(shè)機中冷卻管路一端連通，該回液管與冷卻管路的另一端連通，該儲液裝置的一端連接有高壓氣栗。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的清洗真空鍍膜機冷卻管路清洗設(shè)備可以有效清除真空鍍膜機部件的冷卻管路中沉積的腐蝕物，可以明顯縮短設(shè)備保養(yǎng)周期和降低保養(yǎng)成本，節(jié)約了時間成本和人力成本。
圖1是本發(fā)明真空鍍膜機清洗設(shè)備的整體示意圖。主要元件符號說明
權(quán)利要求
1.一種真空鍍膜機清洗設(shè)備，用于對真空鍍膜機部件的冷卻管路清洗，其特征在于:真空鍍膜機清洗設(shè)備包括儲液裝置，該儲液裝置包括儲液腔體、出液管和回液管，該出液管和回液管上分別設(shè)置若干出液支管，該回液管上設(shè)置有若干回液支管，該出液支管與真空鍍膜設(shè)機的冷卻管路一端連通，該回液管與冷卻管路的另一端連通，該儲液裝置的一端連接有高壓氣泵，以向儲液腔體內(nèi)充入高壓氣體，使出液管和回液管內(nèi)充滿清洗液。
2.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機清洗設(shè)備，其特征在于:所述儲液裝置上分別設(shè)有補液閥門和充氣閥門，該補液閥門控制向儲液裝置的儲液腔體內(nèi)補充清洗液體，該充氣閥門與高壓氣泵連接，用于向其儲液腔體內(nèi)充入氣體。
3.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機清洗設(shè)備，其特征在于:所述在該儲液裝置的出液管和回液管的根部分別設(shè)置有出液管閥門和回液管閥門，該閥門用于控制儲液裝置的儲液腔體內(nèi)的清洗液進(jìn)出。
4.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機清洗設(shè)備，其特征在于:所在真空鍍膜設(shè)備中待清洗的部件為靶材、反應(yīng)室墻壁 及泵組。
全文摘要
一種真空鍍膜機清洗設(shè)備，用于對真空鍍膜機部件中冷卻管路清洗，其包括儲液裝置，該儲液裝置包括儲液腔體、出液管和回液管，該出液管和回液管上分別設(shè)置若干出液支管，該回液管上設(shè)置有若干回液支管，該出液支管與真空鍍膜設(shè)機中冷卻管路一端連通，該回液管與冷卻管路的另一端連通，該儲液裝置的一端連接有高壓氣泵。本發(fā)明克服傳統(tǒng)真空鍍膜機清洗設(shè)備鍍膜室冷卻效果不好的問題，且加工成本低。
