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熱門(mén)關(guān)鍵詞:真空鍍膜機(jī) 真空鍍膜設(shè)備 真空鍍膜機(jī)廠(chǎng)家

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真空鍍膜機(jī)是干什么的

作者:渡渡鳥(niǎo)  來(lái)源:xingxinbz.com  更新時(shí)間:2020-6-22 11:20:29  點(diǎn)擊次數(shù):
  “真空鍍膜機(jī)”我們?cè)谌粘I?、工作中都?jīng)常用到,但不知道大家對(duì)“真空鍍膜機(jī)”是否知道呢?本文收集整理了一些資料,希望本文能對(duì)各位讀者有比較大的參考價(jià)值。

簡(jiǎn)介
  需要鍍膜的被稱(chēng)為基片,鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。

使用步驟

  電控柜操作
  1. 開(kāi)水泵、氣源。
  2. 開(kāi)總電源。
  3. 開(kāi)維持泵、真空計(jì)電源,真空計(jì)檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
  4. 開(kāi)機(jī)械泵、予抽,開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng),真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
  5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后,關(guān)予抽,開(kāi)前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達(dá)一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開(kāi)電子槍電源。

  DEF-6B操作
  1. 總電源。
  2. 同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān),延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮,三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅,若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障,保護(hù)燈會(huì)常亮。
  3. 開(kāi)高壓,高壓會(huì)達(dá)到10KV以上,調(diào)節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。

  關(guān)機(jī)順序
  1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
  2. 待分子泵顯示到50時(shí),依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵,這期間約需40分鐘。
  3. 到50以下時(shí),再關(guān)維持泵。

  適用范圍
  1.建筑五金:衛(wèi)浴五金(如水龍頭).門(mén)鎖.門(mén)拉手.衛(wèi)浴、門(mén)鎖、五金合葉、家具等。
  2.制表業(yè):可用于表殼.表帶的鍍膜、水晶制品。
  3.其它小五金:皮革五金.不銹鋼餐具.眼鏡框、刀具、模具等.
  4.大型工件:汽車(chē)輪轂、不銹鋼板.招牌.雕塑等。
  5、不銹鋼管和板(各種類(lèi)型表面)
  6、家具、燈具、賓館用具。
  7、鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器血等五金制品鍍超硬裝飾膜。
  8、手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾(金銀)納米膜和納米膜和納米疊層膜。

  薄膜均勻性概念
  1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi),也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō),真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。
  2.化學(xué)組分上的均勻性: 就是說(shuō)在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過(guò)程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。
  3.晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題,具體見(jiàn)下。

  主要分類(lèi)
  主要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi): 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類(lèi),包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。

  對(duì)于蒸發(fā)鍍膜:
  一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。

  厚度均勻性主要取決于:
  1?;牧吓c靶材的晶格匹配程度
  2、基片表面溫度
  3. 蒸發(fā)功率,速率
  4. 真空度
  5. 鍍膜時(shí)間,厚度大小。

  組分均勻性:
  蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對(duì)于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

  晶向均勻性:
  1。晶格匹配度
  2。 基片溫度
  3。蒸發(fā)速率
  濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。
  濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射),晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。

  操作程序
  真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書(shū)
  和設(shè)備上儀表盤(pán)指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。
 ?、?檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。
 ?、?打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān),設(shè)備送電。
 ?、?低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥,聽(tīng)不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。
 ?、?安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。
 ?、?落下鐘罩。
 ?、?啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。
 ?、?開(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號(hào):Fzh-1A)。
  a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。
  b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí),左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。
  ⑧ 當(dāng)?shù)驼婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。
 ?、?真空鍍膜機(jī)開(kāi)通冷卻水,啟動(dòng)擴(kuò)散泵,加熱40min。
 ?、?低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),開(kāi)高壓閥(閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn))。
  等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí),開(kāi)規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。
  a. 發(fā)射、零點(diǎn)測(cè)量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。
  b. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。
  c. 鋁絲全部熔化蒸發(fā),擋板回原位。
  d. 右手旋轉(zhuǎn)調(diào)壓器手輪回零位。第一次蒸鍍工作完成。
  21. 如果再想蒸鍍一次(為了增加電極金屬層厚度):把電流分插塞撥出插入另一個(gè)電極分配孔。重復(fù)?操作動(dòng)作。
  22. 關(guān)閉規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。關(guān)閉高壓閥(逆時(shí)針轉(zhuǎn)手柄)。關(guān)閉工件旋轉(zhuǎn)。關(guān)閉蒸發(fā)。旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵鈕至指向擴(kuò)散泵位置。
  23. 低壓閥拉出。鐘罩充氣。充氣一段時(shí)間,當(dāng)沒(méi)有氣.聲時(shí),升鐘罩。
  24. 鎢螺旋加熱子內(nèi)加鋁絲。PVDF薄膜調(diào)換另一面向下 (原下面已鍍一層鋁膜面向上)。緊固在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。
  25. 落鐘罩。開(kāi)機(jī)械泵。
  a. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。
  b. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到6.7Pa時(shí),低壓閥推入。
  c. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。
  d. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到6.7Pa時(shí),開(kāi)高壓閥。旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。
  e. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到指向0.1Pa時(shí),開(kāi)規(guī)管燈絲。
  f. 由?開(kāi)始重復(fù)操作至?。
  26. PVDF薄膜蒸鍍完鋁層后,按順序關(guān)閉規(guī)管燈絲、高壓閥、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵。把低壓閥拉出。鐘罩充氣,充氣完畢后升鐘罩。取出工件,做好鐘罩內(nèi)清理工作。
  a. 落下鐘罩。
  b. 開(kāi)機(jī)械泵,抽3~5min,停機(jī)械泵。
  c. 切斷供電總開(kāi)關(guān)。
  d. 1h后再關(guān)閉冷卻水。操作全部完成。
  27. 正常生產(chǎn)中,如遇到突然停電時(shí),要立即切斷高真空測(cè)量,關(guān)閉規(guī)管燈絲,高壓閥、低壓閥拉出。來(lái)電后,先讓機(jī)械泵啟動(dòng)工作3~5min后,再轉(zhuǎn)入正常生產(chǎn)。

  綜上所述,本文已為講解真空鍍膜機(jī),相信大家對(duì)真空鍍膜機(jī)的認(rèn)識(shí)越來(lái)越深入,希望本文能對(duì)各位讀者有比較大的參考價(jià)值。
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