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現(xiàn)代真空鍍膜機(jī)膜厚測(cè)量及監(jiān)控方法

作者:  來(lái)源:  更新時(shí)間:2019-3-5 9:50:16  點(diǎn)擊次數(shù):
涂層的鍍膜機(jī)控制方法是最直接的石英晶體微天平(QCM)的方法,該儀器可以直接驅(qū)動(dòng)的蒸發(fā)源,通過(guò)PID控制回路傳動(dòng)擋板,使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過(guò)程。但(QCM)的準(zhǔn)確性是有限的,鍍膜機(jī)部分原因是其監(jiān)測(cè)代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。

此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對(duì)溫度很敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中,鍍膜機(jī)很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導(dǎo)致薄膜的重大錯(cuò)誤。 光學(xué)監(jiān)測(cè)是一種高精度涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式,鍍膜機(jī)這是因?yàn)樗軠?zhǔn)確控制膜的厚度(如果使用得當(dāng))。

精度的提高,由于許多因素,但最根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測(cè)。optimalswa-i-05單一波長(zhǎng)的光學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng),是間接控制,鍍膜機(jī)先進(jìn)的光學(xué)監(jiān)測(cè)軟件結(jié)合王博士的發(fā)展,有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少最終的誤差的理論方法,提供監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。
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